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该杂志刊期列表
- 2026年
- 1期
国内刊号：51-1125/TN
国际刊号：1001-3806
发布日期:
作者：干钰琪, 岳帅鹏, 侯庆艳, 刘鹏, 蒋毅坚
关键词：X射线光学, 多层膜反射镜, 刻蚀, Pd/B<sub>4</sub>C, 翻新
为了实现Pd/B4C多层膜反射镜基底在同步辐射硬X射线领域中的可重复使用，在硅衬底上制备带有5 nm Cr缓冲层的Pd/B4C多层膜，采用刻蚀剂溶解Cr缓冲层的方法，成功地将Pd/B4C多层膜从硅基底上剥离，得到了不同刻蚀时长的X射线反射率曲线，对其进行了理论分析和实验验证，并利用白光轮廓仪对不同刻蚀时长后样品的表面粗糙度进行了表征；在刻蚀后的基底上重新镀制了带有Cr缓冲层的Pd/B4C多层膜。结果表明，经过2 h刻蚀后，样品的表面粗糙度(0.38 nm)与新基底的表面粗糙度（0.35 nm）相当；刻蚀后基底表面的氧化层对新镀制多层膜的界面粗糙度没有显著影响，刻蚀后的基底可以有效地翻新使用。该研究为同步辐射X射线光学系统中多层膜单色器基底的可重复使用提供了参考。
来源：2025年第6期
《激光技术》期刊编辑部
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